本装置は、労働安全衛生法に基づく防じんマスクの性能試験(平成12年改定)に沿った試験が行えます。粒子発生装置AP-9000G型と組み合わせて使用することで、NaClやDOP粒子によるマスクとマスク用フイルターの粉じん捕集効率と吸気抵抗の測定が連続してできます。測定の条件設定とデータ処理はパーソナルコンピューターで行い、負荷試験では粉じん捕集効率と吸気抵抗の変化を表示、データの記録もできます。●労働安全衛生法に基づく防じんマスクの性能試験(平成12年改定)に沿った試験が行えます。●85L/minで粉じん捕集効率と吸気抵抗の測定ができます。●連続測定の状態をグラフに表示し変化が一目で見られ、プリントができます。●防じんマスクおよびマスク用フイルターの粉じん捕集効率と吸気抵抗の合否判定値が設定できます。■構 成●粒子発生部AP-9000G(NaCl)を使用します。(詳細は、粒子発生装置AP-9000Gをご参照ください)
●測定部
光散乱光量積分方式を測定原理をする濃度検出器で、試験体の***側と下流側の粒子濃度を同時に測定し捕集効率を評価します。
また同時に微差圧计で試験体の吸気抵抗を測定します。
●記録演算部
パーソナルコンピューターを用い測定系の条件設定と測定データの表示、記録を行います。試験粒子の堆積による捕集効率と吸気抵抗の変化を測定毎に画面に表示、プリンターで印刷もできます。
●測定部
光散乱光量積分方式を測定原理をする濃度検出器で、試験体の***側と下流側の粒子濃度を同時に測定し捕集効率を評価します。
また同時に微差圧计で試験体の吸気抵抗を測定します。
●記録演算部
パーソナルコンピューターを用い測定系の条件設定と測定データの表示、記録を行います。試験粒子の堆積による捕集効率と吸気抵抗の変化を測定毎に画面に表示、プリンターで印刷もできます。
规格
产品编号 | --- | |
---|---|---|
型式 | AP-9000検出部 | |
測定原理 | 粉じん捕集効率:光散乱光量積分方式 吸気抵抗:半導体センサー | |
測定対象 | 防じんマスク、マスク用ろ材 | |
測定範囲 | 粉じん捕集効率:0~100%吸気抵抗:0~1500Pa | |
測定精度 | ±1%以内 | |
測定感度 | NaCl 0.1μm粒子感度、D1:1CPM=1μg/m3、D2:1CPM=0.5μg/m3 吸気抵抗:1Pa | |
測定項目 | 粉じん捕集効率、吸気抵抗、負荷試験 | |
設定流量 | 20、30、40、42.5、85L/min | |
試験粒子 | NaClまたはDOP | |
合否判定設定 | 粉じん捕集効率、吸気抵抗 | |
質量 | 測定部:115kg 粒子発生部:76kg | |
电源 | AC100V 50/60Hz 30A(ZUi大) | |
尺寸 | 測定部:590(W)×570(D)×1154(H)mm 粒子発生部:590(W)×570(D)×770(H)mm | |
お問い合わせください | ||
※粒子発生部AP-9000G(NaCI)の规格につきましては、AP-9000G(NaCI)をご参照ください。 |