产品用途：

硅晶圆、GA AS 等的清洗，液晶玻璃的清洗、镜面的清洗、硬盘的清洗、水晶振子的清洗、薄膜磁头的清洗、脆性材料等清洗，其他超精密产品的清洗。
根据半导体及液晶行业的要求可去除45nm以下超微颗粒

发生器特点：

CPU：内置CPU，可与主计算机相通信（RS485、D-NET）、输出功率集中控制，反馈其工作状态（自我诊断功能）。
数字显示功率输出：3字段的数字显示，高精度管理通常作业状况。
上下限判定功能：发振状态显示实行上下限异常显示功能，其触电功率显示。
PLL频率自动跟踪：KAIJO的PLL方式，即使水的种类、水深、水温（高70℃））等发生变化，发振方式也会自动调整到合适的频率位置。
高频率发振：由POWER MOS FET可进行高频率发振。
无损伤：功率可控制，适合200/300mm晶圆的清洗。

发生器参数：

振板特点：
振动单元为大型P.Z.T振动成分，清洗均匀。
功率密度高，清洗能力***。（大约5.4W/cm2）。
板厚适中，使用寿命强，清洗稳定。
音响无损失。
单元连接缝隙微小，可达到清洗效果。
材质是SU304，316，316L3类型。

清洗槽特点：
石英槽里放置直接振子连接的石英超声波槽，相比旧型号的二重槽式有强力的超声波照射，此技术为KAIJO有技术。
根据使用水温分为常温（50℃ MAX）、高温（80℃ MAX）2种类型。
可制作不锈钢槽。